• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 非接触型ディスペンサー dragonfly discovery 製品画像

    非接触型ディスペンサー dragonfly discovery

    PR高い汎用性、高い粘性も問題なし ポジティブディスプレイスメント式非接…

    dragonfly discoveryは、ポジティブディスプレイスメント方式とディスポーザブルシリンジの両方を採用した新しい非接触型ディスペンサーです。 汎用性の高さ、使いやすいソフトウェアで、1台で様々なアッセイ・研究に対応します。 ●ポジティブディスプレイスメント方式 ピストンが液体を押し出す方式です。粘性・表面張力など様々な溶液に対し、液体ごとのクラス設定なしで正確な分注が行えます...

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    メーカー・取り扱い企業: SPT Labtech Japan株式会社

  • 超臨界水対応簡易ベッセル『SCW-SVシリーズ』 製品画像

    超臨界水対応簡易ベッセル『SCW-SVシリーズ』

    水熱合成、ナノ材料、超臨界アルコール、バッチ式の超臨界CO2、超臨界水…

    超臨界水対応簡易ベッセルSCW-SVは高温高圧かつ過酷な条件での簡易基礎実験に使用でき、初期導入コストや経済性を特に重視したベッセルです。シンプルな構造で超臨界水のほか、超臨界アルコール、バッチ式の超臨界CO2、ナノ材料合成や機能性材料合成の簡易基礎実験に使用可能な超臨界用簡易高温高圧反応容器です。流体条件に応じて設計温度575℃かつ設計圧力50MPaまでの条件で、手軽に超臨界流体の実験が行えます...

    メーカー・取り扱い企業: 浪岡製作所

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