• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • キムテック ポラリスニトリル グローブ ※箱単位でサンプル進呈 製品画像

    キムテック ポラリスニトリル グローブ ※箱単位でサンプル進呈

    PRキムテック史上最高レベルの保護性能と耐久性、人間工学に基づいた快適さを…

    キムテック独自の高品質なニトリルを配合し、非常に柔らかく耐久性に優れています。 人間工学認証も取得し、長時間の作業でも疲労を軽減し、快適にご使用頂けます。 また、幅広い化学物質ならびに抗がん剤で耐性を試験済で安心して安全にご使用頂けます。 改正された労働安全衛生法(関係政省令)*に対応しております。 耐透過性評価試験のデータがございますので、必要に応じてお問合せください。 *『2...

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    メーカー・取り扱い企業: キムテック(Kimtech)・ビジネスユニット 旧キンバリークラーク・サイエンティフィックPPE事業部

  • ゲルタイム測定装置「まどか」熱硬化性樹脂などの硬化時間を測定 製品画像

    ゲルタイム測定装置「まどか」熱硬化性樹脂などの硬化時間を測定

    熱硬化樹脂などのゲルタイムを自動測定!樹脂の硬化挙動も確認可能※デモ受…

    径20mm 深さ2mm 温度設定 室温~最大300℃ 変動±0.5℃ 攪拌部 2軸偏心 回転数 自転部 60~350rpm 公転部 0~140rpm 自動昇降 位置設定分解能0.0025mm以下 ギャップ精度 ±0.025mm以下 その他設定 ギャップ0.1~1.0mm 必要サンプル量 (1回あたりの目安)粉末 0.2~0.5g程度 液体 0.2~0.4ml程度...

    メーカー・取り扱い企業: 松尾産業株式会社 東京支店

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