除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

キムテック ポラリスニトリル グローブ ※箱単位でサンプル進呈

PRキムテック史上最高レベルの保護性能と耐久性、人間工学に基づいた快適さを…

キムテック独自の高品質なニトリルを配合し、非常に柔らかく耐久性に優れています。 人間工学認証も取得し、長時間の作業でも疲労を軽減し、快適にご使用頂けます。 また、幅広い化学物質ならびに抗がん剤で耐性を試験済で安心して安全にご使用頂けます。 改正された労働安全衛生法（関係政省令）*に対応しております。 耐透過性評価試験のデータがございますので、必要に応じてお問合せください。 *『2...

メーカー・取り扱い企業： キムテック（Kimtech）・ビジネスユニット 旧キンバリークラーク・サイエンティフィックPPE事業部

非接触型光学式熱膨張計『ODP 868』

要求の厳しい研究開発および製造技術ラボ用の光学式熱膨張測定計

です。 絶対屈曲測定モードでは、3つのカメラによって、3つの異なるポイントにおけるサンプル位置を同時に測定でき (TAが特許取得済み)、補正曲線を不要にします。 曲げ実験は長さ80～85mmまたは25～30mmのサンプルで測定可能。...

メーカー・取り扱い企業： ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン株式会社 （TAInstruments）

光学式熱膨張率測定装置

光学式膨張測定は、軟化点だけでなく融解点までサンプルに接触することなく…

ラットフォーム＞ 温度範囲：RT – 1,650 ℃/ 温度分解能：0.2 ℃ / 加熱速度：0.1 – 100 ℃/分分解能：3ppm (ISO標準サンプル使用時) / サンプル寸法：最大85mm 雰囲気：空気、酸化、還元、準不活性 ＜HM867 加熱顕微鏡＞ サンプル数：1～ 最大8まで(サンプルサイズ、操作モードによる） 温度範囲室温： – 1600 °C / 温度分解能...

メーカー・取り扱い企業： ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン株式会社 （TAInstruments）

加熱顕微鏡『HM 867』

要求の厳しい研究開発および製造技術ラボ用の加熱顕微鏡システム

『HM 867』は、サンプルを分析し、それらの特性形状を識別することにより、 産業プロセスにおける一層優れた熱サイクルの最適化が可能になりました。 当製品の精密なマイクロステッパーモーターは、カメラとファーナスの 位置調整を含め、XYZ軸上において完全に自動化されたPC制御の操作が可能。 また、光学ベンチは、温度範囲全体で性能と安定性を保証するために、 動的サーモスタット制御シス...

メーカー・取り扱い企業： ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン株式会社 （TAInstruments）