• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 化粧品原料用ヒドロキシアパタイト 製品画像

    化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

    PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止!平均径30μm程度の球状粒子

    『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンギ

  • ホットプレート付きマグネチックスターラー 製品画像

    ホットプレート付きマグネチックスターラー

    デジタル制御で高精度な温度調節と精密な撹拌を実現。

    室温~340℃まで0.1℃の温度制御が可能(表示は-25℃まで可能)。 10rpm刻みの精密・パワフルな撹拌が可能 デジタル制御により、実験の再現性が高まります。 天板はセラミック加工で耐薬品性に優れています。 外部熱電対の接続が可能です。...電源:AC100-120V, 50/60Hz、550W(ヒーター未使用時50W) 回転数:100~1500rpm 設定温度:室温~340℃(表...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サイテム

  • パラレル合成装置AceReactor 製品画像

    パラレル合成装置AceReactor

    1台で12個の反応を同時に実施(加熱還流可能)

    1台で12個の反応を同時に実施。パワフルな加熱、撹拌。冷却部を上下に移動させることで反応液量に合わせた最適な加熱還流が可能。市販の試験管が使えます。スターラー単独使用可能。 外付け熱電対により反応液温を直接調節できます。...反応部(Parallel Base) 試験管数:12本 対応試験管径:外径19mm以下 寸法:約φ160×220(H)mm 冷却部の高さ調整:加熱部より0~80mm...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サイテム

1〜2 件 / 全 2 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • banner_202410_jp.jpg
  • Final_300_21-CAN-51700 SignalStar MVP 3rd Party Banners_Ad1 A New Star-300x300_v2-JP.jpg

PR