除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

溶剤回収システム『ＶＯＣリカバリーシステム』

液体窒素の冷熱（-196℃）を用いて、”低温凝集法”によりＶＯＣ（を連…

液体窒素と窒素ガスを用いて-60～-180℃の任意の温度に調整した低温窒素ガス冷媒と VOC （Volatile Organic Compounds：揮発性有機化合物）を含む排ガスとを熱交換し、VOC を凍結させることなく、連続的に凝縮・回収可能できます。 また、冷熱を利用してガス化した液体窒素は、窒素ガスとして利用することが可能です。 ■低コスト、省スペース化を実現！ 【用途】 ...

メーカー・取り扱い企業： 大陽日酸株式会社