• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載! 製品画像

    バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載!

    PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現!移動範囲も…

    バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法:1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒタカ精機

  • 超低温恒温水槽(循環式)『TRL-70SLP』 製品画像

    超低温恒温水槽(循環式)『TRL-70SLP』

    試料の低温試験、保存、低温容器の間接冷却、ドライアイスの替わりの安定し…

    『TRL-70SLP』は、二元冷凍方式を採用し-70℃の超低温液を外部に 循環することができる超低温恒温水槽です。 実用最低使用温度-70℃、350W(液温-50℃の時)の冷却能力を保有。 撹拌兼用型の循環ポンプは60Wモーターのシールレスポンプで 長時間安心してご使用いただけます。 【特長】 ■二元冷凍方式を採用し-70℃の超低温液を外部に循環することが可能 ■実用最低...

    メーカー・取り扱い企業: トーマス科学器械株式会社

  • 卓上型低温恒温水槽『T-10L』 製品画像

    卓上型低温恒温水槽『T-10L』

    独自の噴流攪拌方式で静かに強力な攪拌を行い、安定した温度環境を提供しま…

    『T-10L』は、各種反応試験、インキュベーションや、材料・試料のテスト、 アスベスト測定試験の前処理に使用できる小型で低価格な低温恒温水槽です。 独自の噴流攪拌方式で静かに強力な攪拌を行い、安定した温度環境を提供。 オプションの外部循環ポンプ「CP-22」を取り付けて、液媒体を外部に 循環することも可能です。 【特長】 ■小型で低価格 ■温度調節はデジタル設定、デジタル...

    メーカー・取り扱い企業: トーマス科学器械株式会社

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