• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 化粧品原料用ヒドロキシアパタイト 製品画像

    化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

    PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止!平均径30μm程度の球状粒子

    『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンギ

  • テフロクリア(疎水性メンブレンフィルターカートリッジ) 製品画像

    テフロクリア(疎水性メンブレンフィルターカートリッジ)

    疎水性PTFE膜を使用した空気・ガス及び溶剤の滅菌濾過用フィルター!

    数)】 135℃30分間のインラインスチーム滅菌 正圧側 100回 逆圧側 60回(差圧14KPa以内での条件下に於いて) 【耐圧及び使用温度】 414KPa 20℃ 207KPa 60℃ 170KPa 80℃ 各種グレードを取り揃えております。 ...

    メーカー・取り扱い企業: フィルテック株式会社 鈴鹿支店

  • TAB除去用オムニクリア SM-NBシリーズ 製品画像

    TAB除去用オムニクリア SM-NBシリーズ

    親水性メンブレンフィルターカートリッジ 飲料中のTAB(耐熱性好酸性菌…

    TAB除去用オムニクリアは、超親水性ポリエーテルスルフォン(PES)を素材として使用したフィルターカトリッジです。 PESはその化学的特性から薬剤や熱への耐久性に優れ、高い微生物除去性能を有します。 SM-NBシリーズは、耐熱性好酸性菌除去用に開発されました。 ・非対称トリプル構造により、長い寿命と大きな流量を実現、微細な孔径はバクテリアグロースルーにも十分に対応が可能。 ・ カートリッ...

    メーカー・取り扱い企業: フィルテック株式会社 鈴鹿支店

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