除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

超臨界CO2抽出ラボ試験機『C-2.0／C-2.0-S1』

寸法1200W×600D×1800H、重量約200kg！超臨界CO2抽…

『C-2.0／C-2.0-S1』は、超臨界CO2抽出ラボ試験機です。 “抽出容器”は、内容積2000ml（内径φ80mm）、設計圧力29.9MPa（常用27MPa）、 設計温度140℃（常用130℃）。 装置はカバーなしのスケルトン仕様です。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【仕様（一部）】 ＜ユーティリティー＞ ■電源：単相200V 30A（本体）、単...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイテック

超臨界CO2抽出装置

ラボスケールからプラントまで！目的の溶質を溶かしたCO2は減圧され、分…

当社が取り扱う『超臨界CO2抽出装置』をご紹介します。 二酸化炭素は、32℃、72気圧以上で超臨界状態となります。 この超臨界CO2は液体でも気体でもありませんが、気体の高い拡散性と液体の 高い溶解性の特長を持ち、その特性は温度と圧力の制御により自由にコントロール 可能なため、食品、生薬等における成分の抽出や除去の分野で広く使われています。 それ以外にも、乾燥、染色、めっき、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイテック

超臨界CO2抽出ラボ試験機『C-2.0M／C-2.0-S1M』

装置はカバーなしのスケルトン仕様！撹拌機付属タイプの超臨界CO2抽出ラ…

『C-2.0M／C-2.0-S1M』は、撹拌機付属タイプの超臨界CO2抽出ラボ試験機です。 “抽出容器”は、内容積2000ml（内径φ80mm）、設計圧力29.9MPa（常用27MPa）、 設計温度140℃（常用130℃）。 また、“エントレーナーポンプ”は、流量100ml/min（最大）、29.9MPaで、 “ガス流量計”は、流量10-2000L/hr,温度-10～50℃となって...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイテック