• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 化粧品原料用ヒドロキシアパタイト 製品画像

    化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

    PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止!平均径30μm程度の球状粒子

    『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンギ

  • 高純度純水製造装置 RFV743HA・843HA 製品画像

    高純度純水製造装置 RFV743HA・843HA

    ROとイオン交換法を組合せ、安価に高純度の精製水(JIS A4)を製造…

    【特長】 ●25L/h、100L/h(at 水温25℃)の精製速度で、使い勝手、操作性に優れた高機能の大容量タイプ。 ●イオン交換水を貯水する別置きタンクは、高い遮光性を実現。 ●実容量30L、60L、100Lの3種類から、使用水量に応じて選択可能。 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。...●大型で見やすい3.5型タッチパネル式カラー液晶ディスプレ...

    メーカー・取り扱い企業: アドバンテック東洋株式会社

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