• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載! 製品画像

    バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載!

    PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現!移動範囲も…

    バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法:1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒタカ精機

  • OES・強アニオンイオン交換樹脂『A-304』 製品画像

    OES・強アニオンイオン交換樹脂『A-304』

    純度の高い水質精製が可能!化学的、物理的安定性を保持した交換樹脂をご紹…

    『A-304』は、スチレン-ジビニルベンゼン共重合体に第4級アンモニウム基を 持つ陰イオン交換樹脂です。 主に混床式の純水装置、複床式純水装置に使用され、純度の高い水質精製が 可能。化学的、物理的安定性を保持しています。 他にも「C-108」をはじめ「A-307」や「C-258FD」、「D-870B」、「MB-8415」、 「ER-8415」をラインアップ。ご用命の際は、お気軽に...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社オー イー エス 本社

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