除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

【出張テスト】直接燃焼式脱臭装置デモ機のご紹介

お客様工場まで搬送できる可動式のため、実際の臭気を使ったテストが可能。…

品加工などあらゆる分野に対応が可能です。 ～装置概要～ 処理可能成分：VOC（揮発性有機化合物）その他あらゆる臭気に対応いたします。 処理能力：Max.1.0㎥N/min 処理温度：760℃（Max.800℃） 被処理ガス温度：常温～250℃ 被処理ガス圧力：マイナス500Pa以上 被処理ガス濃度：爆発下限界の1/4以下 ～ユーティリティ・お客様にご準備いただくもの～ ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社正英製作所 本社、東京支店、名古屋営業所、大阪支店、広島支店、九州支店