除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

【人手に頼っていた重筋作業を改善】段ボールケース開梱・取出し装置

PR【人手に頼っていた重筋作業を改善】原料段ボールケースの開梱と原料の取り…

［重労働な原料段ボールケースの開梱作業］ 食品工場での原料の荷捌き工程は、重量物の取り扱いや作業環境による身体の負担、怪我の心配があり、省人化及び労務改善の観点から自動化を求める声が高まってきています。また、開梱時に段ボール自体をカットすると紙粉が発生しやすく、紙粉は異物混入の原因になり得ます。 ［自動で開梱、原料の取り出し、空ケース排出をコンパクトに］ 本装置は、食品原料入りの段ボール...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニッコー

塗装剥離液『アンラスト EW-R』

エナメル電線皮膜を剥離することが可能！塩素系、アミン系の溶剤を含有して…

の拭き取りでエナメル電線皮膜を 剥離することが可能。 塩素系、アミン系の溶剤を含有せず、臭いを抑え、人体への影響が少ない 製品です。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ■時間：30～120分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

アルミ・アルミ合金用エッチング液『マストーバ E1』

混酸タイプのエッチング液で、臭気が少なく作業性に優れています

【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト RC-D6』

ドライフィルムレジスト剥離液やウレタン塗料の剥離等に使用可能！

溶剤タイプの剥離液で、ドライフィルムレジスト剥離液や ウレタン塗料の剥離等に使用可能。 18kg缶／ドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液『アンラスト RMO-C』

苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離を促進に好適！

『アンラスト RMO-C』は、高温使用が可能の為、剥離性に優れている 塗装剥離液です。 塗膜の溶解が比較的少ない為、浴寿命が長く経済的。 また、高濃度タイプの為、添加量が少なくてすみ、 塩素系溶剤、有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度：苛性アルカリに3～7％混合 ■温度：70～110℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液『アンラスト MP』

溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などに！高温使用が可能の為、剥離性に優れ…

『アンラスト MP』は、浴寿命が長く経済的な塗装剥離液です。 苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などの用途に好適。 高温使用が可能の為、剥離性に優れています。 【処理条件】 ■濃度：苛性アルカリに2～5％混合 ■温度：70～110℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【その他の特長】 ■対象...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液『アンラスト RMO-K』

溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進に好適！高温使用が可能の為、剥離性に優れ…

『アンラスト RMO-K』は、苛性カリベースの電着塗装剥離剤です。 塗膜の溶解が比較的少ない為、浴寿命が長く経済的。 また、高温使用が可能の為、剥離性に優れ、塩素系溶剤、 有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：70～110℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。......

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所