バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

ハイクロソフト水生成装置『ウェル クリン・テ・プラス』

高度な衛生管理が求められる現場へ！環境に配慮したハイクロソフト水生成装…

【仕様(抜粋)】 ■形式：NDX-65KM-H(P2) ■サイズ(本体)：W240×H350×D201 ■重量：約5.5Kg ■定格：AC100V 2.7A 50/60Hz ■使用流体温度：0〜35℃(凍結無き事) ■生成量：1.5L添加液で約350L ■使用可能水量：2.0L/分(0.15MPa時) ■運転時間：7・10・15・60秒/10分 ■電解槽...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社OSGコーポレーション

ハイクロソフト水生成装置『ウェル クリン・テ・ネオ』

非接触型センサー搭載！手を触れずに操作可能なハイクロソフト水生成装置

0以下の水 ■使用可能水圧：0.1～0.7MPa(0.2MPa以上は減圧弁使用のこと) ■使用可能温度：0～35℃(凍結不可) ■生成水量：約2.6L/min. ■電源：AC100V 50/60Hz 0.8A ■寸法：W260mm×H361mm×D120mm(突起部含まず) ■重量：約4kg(乾燥重量) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社OSGコーポレーション