除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

天然鉱石 光明石人工温泉

既存の浴槽、循環回路にも簡単に設置可能！ランニングコストの低減がはかれ…

【温泉ユニット仕様】 ■OU-1t：光明石=7.5Kg､麦飯石=60Kg､SUSケース､外付ユニット､看板 ■OU-2t：光明石=15Kg､麦飯石=60Kg､SUSケース､外付ユニット､看板 ■OU-3t：光明石=22.5Kg､麦飯石=80Kg､SUSケース､外...

メーカー・取り扱い企業： スパテクノ株式会社

足湯ユニット『足湯Deジェット＜いろり＞』

自動温度調整・衛生対応・ろ過循環式の本格足湯！メンテナンスも簡単です！

【仕様】 ■電源：三相200V×3.4KW（ノンヒューズブレーカー付単独回路） ■ポンプ：0.4KW ■ヒーター：3.0KW ■Hz：50/60Hz ■概略寸法：2900×1050×505H ■本体重量：約200Kg ■運転重量：約600Kg ■使用水量：約380L ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下...

メーカー・取り扱い企業： スパテクノ株式会社