除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

流量制御バルブ『MODEL KAFV-100 SERIES』

リークの懸念が不要！低圧損、コンパクト設計なダイヤフラム式流量制御バル…

【仕様(一部)】 ■対象流体：純水、薬液、腐蝕性ガス等 ■CV値：0.175 ■動作差圧：0.05～0.3MPa(G) ■周囲温度：0～60℃ ■最高使用圧力：1MPa(G) ■最高使用温度：90℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡

小型比例ソレノイドバルブ『MODEL 3000 SERIES』

ヒステリシス最小15%以内！小型、軽量、単電源用のバルブをご紹介

ドバルブです。 ヒステリシス最小15%以内で、標準仕様のほか、ホースニップル付仕様や、 継手付仕様をご用意。 対象流体はN2、Air、H2、He、Ar、O2、CO2等の気体で、重量は約60g(Rc1/8付は140g)と なっています。ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【標準仕様(一部)】 ■最大制御電圧：12/24V ■消費電力：Max.1W/2W ■ヒステ...

メーカー・取り扱い企業： コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡

ニードルバルブ『MODEL 2400/2400A SERIES』

接続はRc1/4！調節ネジ回転数が約12回転(有効回転数5～12)の簡…

【その他の標準仕様】 ■最高使用温度 　・S：60℃ 　・B：60℃ ■接流体部材質 　・2400A：SUS304、FKM、SUS303、PCTFE 　・2400：真鍮、NBR、SUS303、POM ■接続：Rc1/4 ※詳しくはP...

メーカー・取り扱い企業： コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡