• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載! 製品画像

    バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載!

    PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現!移動範囲も…

    バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法:1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒタカ精機

  • ハンディタイプUV硬化装置 レンタル 製品画像

    ハンディタイプUV硬化装置 レンタル

    高圧ランプ100W~1kWまでの装置のレンタルは当社にお任せ下さい。

    【ハンディ100】 ■ 高圧ランプ100W 発光長:25mm 40W/cm ■ 電源:AC 100V 周波数:50か60Hzかご指定下さい。 ■ 照射エリア:φ10~20mm 【ハンディ400】 ■ 高圧ランプ400W 発光長:80mm 50W/cm ■ 電源:AC 100V 周波数:50か60Hzかご指...

    メーカー・取り扱い企業: セン特殊光源株式会社

  • 卓上型表面処理装置 レンタル 製品画像

    卓上型表面処理装置 レンタル

    UVの洗浄改質装置のレンタルは当社にお任せ下さい。

    光洗浄装置の導入を検討されている方や期間限定でご使用になりたい方 におススメです。 照射サイズは160mm×160mm 高さ調整により立体物の表面もUV処理可能です。 素材によって洗浄改質の効果が違いますのでぜひお試しください。 期間は基本1ヶ月単位ですが、週単位の場合はご相談下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: セン特殊光源株式会社

  • 卓上型表面処理装置 【ターンテーブル】 製品画像

    卓上型表面処理装置 【ターンテーブル】

    自動回転テーブルの卓上型表面処理装置

    本 ■照射エリア:200×200mm ■照射距離:5~200mm(1mm毎に調整可能です) ■回転テーブル:φ200mm 3.3rpm(50Hz)              4rpm(60Hz) ■入力電源:AC 100V 50/60Hz共用 ...

    メーカー・取り扱い企業: セン特殊光源株式会社

  • 紫外線洗浄改質処理装置【コンベア式】 製品画像

    紫外線洗浄改質処理装置【コンベア式】

    照射ムラの少ないコンベアタイプ表面処理装置

    【仕様】 [光源部] ■寸法:1300×550×431H mm  ■重量:50kg ■使用ランプ:SUV110WS-55L×3本 ■照射エリア:380×260mm ■照射距離:10~50mm(10mm刻み) [電源部] ■寸法:340×660×250H mm  ■重量:40kg ■入力電源:AC 3相200V 50/60Hz共用 ■消費電力...

    メーカー・取り扱い企業: セン特殊光源株式会社

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