除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

超低温恒温水槽（循環式）『TRL-70SLP』

試料の低温試験、保存、低温容器の間接冷却、ドライアイスの替わりの安定し…

冷凍方式を採用し－70℃の超低温液を外部に 循環することができる超低温恒温水槽です。 実用最低使用温度－70℃、350W（液温－50℃の時）の冷却能力を保有。 撹拌兼用型の循環ポンプは60Wモーターのシールレスポンプで 長時間安心してご使用いただけます。 【特長】 ■二元冷凍方式を採用し－70℃の超低温液を外部に循環することが可能 ■実用最低使用温度－70℃、350W（液...

メーカー・取り扱い企業： トーマス科学器械株式会社

卓上型低温恒温水槽『T-10L』

独自の噴流攪拌方式で静かに強力な攪拌を行い、安定した温度環境を提供しま…

m ■容量：15L ■温度範囲：＋5℃～＋40℃ ■温度安定度：±0.1℃ ■温度調節：デジタル式温度指示調節器　PID制御方式 ■ヒーター：シースワイヤー式　500W ■冷凍機：空冷式60W　HFC-134a ■冷却能力：195W（170kcal/h　水温＋20℃　50Hz） ■撹拌機：噴流撹拌方式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： トーマス科学器械株式会社