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PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現!移動範囲も…
バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法:1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒタカ精機
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PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…
『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...
メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社
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すべり止め効果を付与したい表面にスプレーするだけ! 手軽に塗布した表…
重ね塗りによる調整に便利 <仕様> 荷姿:エアゾール 外観・臭気:薄褐色乾性被膜・溶剤臭 グリップ成分:無機樹脂系粒子(プラスチック系) 指触乾燥:20~30分 実用乾燥:60分 完全乾燥:8時間(歩行箇所)24時間(歩行頻度の多い箇所) 塗布面積:1.4/本 標準膜厚:2~12μm 静摩擦係数:0.96(dry)/0.97(wet) ...
メーカー・取り扱い企業: NCH Japan(日本エヌ・シー・エイチ株式会社)
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摩耗の激しい部分の保護、補修に適した耐摩耗性の急速硬化型補修剤です。
工面積(6ミリ厚) 800平方センチメートル/kg ○作業可能時間 5分 ○硬さ ASTM D2240(JIS K 6253相当) 89ショア―D ○耐熱温度 105℃(乾燥) 60℃(湿潤) ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: NCH Japan(日本エヌ・シー・エイチ株式会社)
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