除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

リニアポンプ『LRシリーズ』【優れた定量性と送液精度！】

医薬・研究・食品・環境分析など幅広い用途に応える高機能！独自開発による…

【概略仕様（50/60Hz）】 ■型式：LR-T1SRRSF1J　LR-T1SRSSF1J ■流量範囲：0.01〜100mL/min(注) ■最大吐出圧力：1.0MPa ■接続口径：R1/8 ■バルブ材質：ルビ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イワキ

小型液体ダイヤフラムポンプ HSR-03/06/09/15

さらにコンパクトになった 高圧液体移送ダイヤフラムポンプ

【概略仕様】 ■型式：HSR-03・HSR-06・HSR-09・HSR-15 ■定格仕様：吐出量　30mL/min・60mL/min・90mL/min・150mL/min 　　　　　　吐出圧力：0.5MPa ■最高吐出圧力：0.6MPa ■主要材質：GFRPP、FKM、EPDM ■モータ仕様：電圧 DC24V...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イワキ