除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

IBSコート光学系 ::::: 部分反射ミラー・出力カプラ

様々な反射率（20:80, 30:70, 40:60, 33:67, …

● 平面、球状、ウェッジなど様々な形状の提案が可能 ● 高い損傷閾値でイントラキャビティ用途に最適化 ● 様々な反射率（20:80, 30:70, 40:60, 33:67, 1:99, etc）を0.05%の誤差で実現 ● 低吸収のUV・IRグレード溶融石英基板によりベストなパフォーマンス ● セグメント分けされたナイフエッジ設計...

メーカー・取り扱い企業： サンインスツルメント株式会社 本社

IBSコート光学系 ::::: 紫外・近赤外ダイクロイックミラー

IBSコーティングのUVレンジ高反射>99%・赤色＋近赤外透過のダイク…

: HRs>99% @ 345 - 420 nm + HTp>95% @ 690 - 840 nm + 1500 - 2000 nm + HTs>80% @ 1380 - 1700 nm, AOI=60 deg Low GDD Rs <30 fs² @ 345 - 420 nm, AOI=60 deg S2: ARp @ 690 - 840 nm + ARs @ 1380 nm - 1700 ...

メーカー・取り扱い企業： サンインスツルメント株式会社 本社