除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

アスピレーター『JJ-ASP』

細胞培養の培地交換時の吸引に適したアスピレーター

【仕様】 ■ボトル容量：2L（ただし吸引量は1.2Lまで） ■空気量（L/min）：15/18 (50/60hz) ■真空度（kPa）：26.66 ■電源：AC100V、50/60Hz ■消費電力（W）：90 ■重量（kg）：6 ■外寸（W x D x H mm）：300 x 200 x 300...

メーカー・取り扱い企業： トスク株式会社(旧十慈フィールド)

卓上型ワークブース『DNAワークブース NSV-4』

効率的なUV照射でコンタミネーションを防止し、PCRの偽陽性を低減させ…

70×H625mm 外装：ボンデ鋼レザートン焼付塗装仕上げ 内装：SUS304 前面シャッター：上下スライド方式 照明用蛍光灯：15W×2本 UVランプ：15W×4本 UV用タイマ：1～60分（初期設定：30分） 電源：AC100V 50/60Hz 消費電力：90W 重量：50kg ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： トスク株式会社(旧十慈フィールド)

液中パーティクルカウンタ『KL-05』

医薬品工場などにおける注射剤中の不溶性微粒子を測定　『日本薬局方　注射…

【仕様】 ◆光源：半導体レーザ(定格出力：4.5mW、波長：790nm) ◆レーザ製品のクラス：クラス１、IEC 60825-1 ◆受光素子：フォトダイオード ◆接液部材質 ・フローセル：合成石英 ・シリンジ：ほうけい酸ガラス、PTFE ・シリンジポンプ：Kel-F(PCTFE)、PTFE ・チューブ、...

メーカー・取り扱い企業： トスク株式会社(旧十慈フィールド)

薄型恒温プレート『LABOPAD Series』

当製品で快適な作業を！無菌操作やプロテオミクスの処理に好適

【LABOPAD-C2 仕様(一部)】 ■型式：LP-C2 ■設定温度範囲：－10～100℃ ■到達最低温度：室温ー27℃ ■加熱所要時間(室温から60℃加熱するための時間) ・約2.5分(ブロック等を使用しない時) ・約7分(0.2mLアルミブロックを使用した時) ■冷却所要時間(室温から20℃冷却するための時間) ・約3分(ブロック等を...

メーカー・取り扱い企業： トスク株式会社(旧十慈フィールド)