除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

『超小型CMOSビデオスコープ　AX-1／UT-1』

0.95×0.95mmの極小カメラを搭載！LEDライトで狭い場所も隅々…

【主な仕様】 画素数：16万画素 画角：120° F値：4.0 被写界深度：2.5-60mm フレームレート：60fps カメラ・ケーブル直径：1.39mm±0.01mm（モデルAX-1） ケーブル全長：2000mm ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にど...

メーカー・取り扱い企業： オーテックス株式会社

高速PSDシグナル処理システム 「SEEPOS NEW」

nW~mWまでのDCLightソース、パルス光源の測定が可能！

　　　　　±0.3％(2次元) ○温度ドリフト　20ppm/℃(1次元) 　　　　　　　　40ppm/℃(2次元) ○分解能（20nm～） →素子サイズの100万分の1 ○最大有効受講面　60×3mm(1次元) 　　　　　　　　　45×45mm(2次元) ○広い波長感度領域（200nm～1100nm） ○迷光除去機能（NT） ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロー...

メーカー・取り扱い企業： オーテックス株式会社

6-Dメカニカルステージ

6-Dクオリティで最高級のメカニカルステージ

Hybrid Hexapodシリーズ ・可動軸：XーYーZーΘーTilt XーTilt Yの自由曲線 ・X-Yストローク：60ー30mm ・Zストローク：6ー10mm ・Θストローク：360° ・Tilt X - Tilt Yストローク：±3ー±18° ・分解能：直動: 5nm, 角度: <0.04秒 ●詳し...

メーカー・取り扱い企業： オーテックス株式会社

『ピエゾモーターステージ』

X、XY、XYZ、θ等、数多く取揃え！モーターに対応するコントローラー…

5、65、85 ■発生力：10N ■最大速度：3mm/S ■エンコーダV2：61nm ■オプティカルエンコーダ：0.5nm ■サイズ（mm） ・30×30×14、30×50×14、30×60×14、30×80×14、30×100×14 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： オーテックス株式会社