除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

低露点空気発生機　EuphonyAce（R）

何度℃の露点（湿度）環境が最適？医薬品原料・化学品などの水分に敏感な材…

。 そんな疑問・ご要望にお答えしたいと開発しました。 【特徴】 ■実験環境・製造環境での最適露点を選べる ■医薬品原料・化学品などの水分に敏感な材料の取扱環境作りに最適 ■‐60℃～‐35℃露点範囲を自由に制御 ■制御精度±1.5℃以内 ※詳しくは下記フォームよりお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 五和工業株式会社

露点制御式ドライグローブボックス 「ユーフォニーエース」

不活性ガスタイプに替わる超低露点ドライエアー式グローブボックス

【仕様】 ○発生露点：－76℃ ○標準制御露点：－60℃～－35℃ ○制御精度：±1.5℃以内 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 五和工業株式会社