除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

温水式LNG気化器

適用法規は、高圧ガス保安法！温水式LNG気化器をご紹介します

設備の用途により高圧ガス保安法、ガス事業法、電気事業法が 適用されます。 【設計仕様（LNG側）】 ■適用法規：高圧ガス保安法 ■設計圧カ：1.0MPa ■設計 温度：-162～ 60℃ ■運転圧カ：0.1～ 0.6MPa ■運転温度：-162～ 40℃ ■耐圧試験圧カ：1.5MPa ■気密試験圧力：1.0MPa ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い...

メーカー・取り扱い企業： ミクニキカイ株式会社