• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 化粧品原料用ヒドロキシアパタイト 製品画像

    化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

    PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止!平均径30μm程度の球状粒子

    『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンギ

  • コスモピア 恒温恒湿槽『低温低湿対応シリーズ』 製品画像

    コスモピア 恒温恒湿槽『低温低湿対応シリーズ』

    蒸発温度制御により、低温低湿制御領域での連続試験が可能!

    温湿度制御範囲を10℃/10%RHまで拡張したコスモピア 『低温低湿対応シリーズ』をご紹介します。 蒸発温度制御により、低温低湿制御領域での連続試験が可能。 低温低湿制御領域において、蒸発温度制御と圧縮機吸込圧力の制御により、 500Wの顕熱負荷に対応しました。 【特長】 ■低温低湿試験に対応 ■連続試験対応 ■発熱負荷対応 ■試験槽内容積 800L ■標準恒温恒湿槽と...

    メーカー・取り扱い企業: コスモピアハイテック株式会社

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • Final_300_21-CAN-51700 SignalStar MVP 3rd Party Banners_Ad1 A New Star-300x300_v2-JP.jpg
  • banner_202410_jp.jpg

PR