除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

ダイヤフラムポンプ『DM-Pシリーズ』 ※デモ機貸出中

低価格・短納期汎用ダイヤフラムポンプ

スペック】 ■吐出量範囲：～60l/min ■最大吐出圧力：0.6MPa ■主要材質 ・ケーシング/POM(ポリアセタール) ・ダイヤフラム/PTFE ■駆動部：エア駆動方式 ■液温範囲：-20～60℃ ■移送可能粘度：8,000mPa.sまで ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エスティフロー

一軸ねじ式ポンプ『PCシリーズ』 ※デモ機貸出中

水物から高粘度液まで！様々な液体や固形物を傷めることなく安定移送

0, SCS14 ・ローター/SUS316 ・ステーター/NBR,EPDM,FKM ■シール方式：メカニカルシール、グランドパッキン ■所要動力範囲：0.2～3.7kW ■液温範囲：5〜60℃ ■含水率：75％以上 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エスティフロー

一軸ねじ式ポンプ（サニタリー仕様） ※デモ機貸出中

分解メンテナンスが容易！様々な液体や固形物を傷めることなく安定移送

材質 ・ケーシング/Fc250, SCS14 ・ローター/SUS316 ・ステーター/NBR,EPDM,FKM ■シール方式：メカニカルシール ■所要動力範囲：0.2～3.7kW ■液温範囲：5〜60℃ ■含水率：75％以上 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エスティフロー