除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

還元的アミノ化触媒

第1級～第3級アミンをワンポットで合成可能！

級アミンを合成可能 【反応操作が簡便】 ■特殊な反応装置が不要 　水素源としてぎ酸アンモニウムまたはぎ酸を用いることから、耐圧容器などの特殊な設備を必要としない ■穏和な反応条件 　60℃～還流条件下の反応条件で用いることができるため、実用性が高い ■空気中で安定 　本触媒は空気中で安定に取り扱うことができるため、通常の実験設備で秤量可能 詳細はカタログをダウンロードして...

メーカー・取り扱い企業： 関東化学株式会社 バイオケミカル部

不斉水素化触媒『s-PICA触媒』

不斉反応をあきらめていたあのケトンが高エナンチオ選択的に光学活性アルコ…

北海道大学 大熊教授らと共同開発いたしました、これまでにないユニークな基質適用範囲をもつ、新しい不斉水素化ルテニウム触媒です。 ケトン類を高効率・高エナンチオ選択的に光学活性アルコールに変換します。 反応条件の選択により、ケトエステルをジオールに還元することも可能です。 触媒のバルク供給にも対応しており、工業化プロセスに有用です。 【特長】 ■ユニークな基質適用範囲 　従来型の触媒...

メーカー・取り扱い企業： 関東化学株式会社 バイオケミカル部