除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

非接触型ディスペンサー dragonfly discovery

PR高い汎用性、高い粘性も問題なし ポジティブディスプレイスメント式非接…

dragonfly discoveryは、ポジティブディスプレイスメント方式とディスポーザブルシリンジの両方を採用した新しい非接触型ディスペンサーです。 汎用性の高さ、使いやすいソフトウェアで、１台で様々なアッセイ・研究に対応します。 ●ポジティブディスプレイスメント方式 ピストンが液体を押し出す方式です。粘性・表面張力など様々な溶液に対し、液体ごとのクラス設定なしで正確な分注が行えます...

メーカー・取り扱い企業： SPT Labtech Japan株式会社

樹脂 高耐熱反射防止膜 『高耐久アルミ増反射膜』

金属膜と誘電体膜のハイブリッド構成により光の干渉を利用して高反射率化

【技術概要】 ■高反射率：Al Rave＝95.0% ■高耐久膜：105℃×1,000hr　60℃95%×1,000hr ■対応基板：PC、ゼネオックス、硝子 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 伊藤光学工業株式会社 光学ハクマク事業部

高耐久Al増反射ミラー

対応基板はPC、ゼオネックス、硝子基板！過酷な環境下においても耐えうる…

車載部品などに要求される過酷な環境下においても耐えうる高反射膜を 実現しました。 【特長】 ■反射率：450～650nmRave≧95％ ■耐久性：105℃×1000h　異常なし 　60℃・95％×1000h　異常なし ■対応基板：PC、ゼオネックス、硝子基板 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 伊藤光学工業株式会社 光学ハクマク事業部