除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

プローブ『HygroClip2 Advanced–SM』

高精度の相対湿度計測(±0.8％RH)と温度計測(±0.1℃)を実現！

23℃)：湿度 ±0.8％rh、温度 ±0.1℃ ■測定範囲：湿度 0～100％rh、温度 -50～＋100℃ ■デジタル出力(標準)：UART ■標準アナログ出力：0-1V, -40～＋60℃ /0～100％RH ■10-35-80％RH@23℃で調整 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： PSTジャパン株式会社 （旧ミッシェルジャパン株式会社）

プローブ『HygroClip2 Advanced–S3』

日照による温度上昇の影響を最低限に抑えるための白色ボディ！

■精度(at23℃)：湿度±0.8％rh、温度±0.1℃ ■測定範囲：湿度0～100％rh、温度-50～＋100℃ ■デジタル出力(標準)：UART ■標準アナログ出力：0-1V,-40～＋60℃/0～100％RH ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： PSTジャパン株式会社 （旧ミッシェルジャパン株式会社）

プローブ『HygroClip2 Advanced–IC』

高温環境下の相対湿度測定アプリケーションに特化！デジタル出力は、UAR…

『HygroClip2 Advanced–IC』は、工業アプリケーションに適したモデルの 工業用ケーブル付き相対湿度・温度プローブです。 高精度の相対湿度計測(±0.8％RH)と温度計測(±0.1℃)を実現。 変換器のセンサー別体型相対湿度・温度変換器「HygroFlexシリーズ」と 組み合わせたユニットとしてHVACシステムへの応用、 装置組み込みのOEM用途として選択されてい...

メーカー・取り扱い企業： PSTジャパン株式会社 （旧ミッシェルジャパン株式会社）