除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

大容量真空フィルタVFL

流量：360L/min[ANR]！大流量真空発生器、真空ポンプ向け真空…

【仕様】 ■使用流体：空気 ■使用圧力範囲：-101～0 kPa ■濾過度：1, 5, 10, 200 μm（捕集効率：95％） ■使用温度範囲：0～60℃（凍結なきこと） ■濾過面積：64.4cm2 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本ピスコ

粒体、粉体、繊維搬送用エジェクター 真空発生器 VRL

ワークの大きさ、量により機種選定可能！

行える ■ワークの大きさ、量により機種選定ができる ■使用流体：空気、不活性ガス ■使用圧力範囲：0〜0.9MPa ■定格供給圧力：0.5MPa ■使用温度範囲：0〜60℃ ■その他機能や詳細については、カタログをご覧頂くか、 もしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本ピスコ