除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

チューブ式ローラーポンプ RP-LF

低回転でもパワフルに安定運転。回転表示器付きで細かい制御が可能。再現性…

【仕様】 モーター：ブラシレスモータユニット　BMU460SA-10（単相100V仕様） 吐出圧力：0.1MPa 耐熱：～60℃（ポアロン）、～135℃（ファーメドBPT）、～150℃（高強度シリコーン） 電源：単相100～120V（50/60Hz、1.7A）、単相200～240V（50/60Hz、1.0A） 寸法：W...

メーカー・取り扱い企業： 三洋テクノス株式会社 ポンプ事業部

小型チューブ式ローラーポンプ『RP-M5F』

選べる3種類の可変範囲！外部信号制御・タイマー制御等、お客様のニーズに…

『RP-M5F』は、小型軽量の卓上型タイプで微量吐出に適したポンプです。 当社オリジナルのローラーポンプ用シリコーンチューブは、 食品衛生法適合で最高使用温度は200℃。オートクレーブ滅菌が可能です。 ポンプ部品は、耐薬品性に優れたローラーと潤滑性・強度に優れたチューブ 受皿です。また、チューブ受皿は、当社独自のスプリング方式を採用しており、 押圧調整が不要です。 【特長】...

メーカー・取り扱い企業： 三洋テクノス株式会社 ポンプ事業部