除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

千葉セラミック工業　誘電体材料のご提供

少量からでも開発可能！ 単版セラミックコンデンサも原料開発からおこなえ…

電体材料をご提供しております。 弊社では、単版セラミックコンデンサも原料開発からおこなっています。標準原料品として、チタン酸バリウム系コンデンサ（ε=1300・2500・3500・4500・7000）、チタン酸カルシウム系コンデンサ（ε=200）・高周波用コンデンサ等、各種原料を取り揃えています。 【こんなお困りごとは、ご相談ください】 ■原料メーカーから購入していた原料が手に入らな...

メーカー・取り扱い企業： 千葉セラミック工業株式会社 愛生工場

【セラミック部品加工】　原料配合～製品化までの一貫生産

焼結前の原料調整も自社で行えるため、スピード・コストが抑えられます！

弊社は、単板セラミックコンデンサも原料開発から行っています。　　 【弊社標準原料品】 ・チタン酸バリウム系コンデンサ（ε=1300・2500・3500・4500・7000） ・高周波用コンデンサ各種 ・チタン酸カルシウム系コンデンサ（ε＝180） ・各種原料を取り揃え、お客様のニーズに素早く細かい対応をするよう心がけております。 標準品にない特性をお求...

メーカー・取り扱い企業： 千葉セラミック工業株式会社 愛生工場