• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 半自動液体充填機 KC-W-20SKVG 製品画像

    半自動液体充填機 KC-W-20SKVG

    PR新型指示計搭載で使いやすさと拡張性を大幅に向上!

    発泡性や粘度のある液体にも対応する、18L缶、バッグインボックス、ペール缶などの容器へ定量充填可能な非防爆型液体充填機です。 搭載指示計を刷新し、充填精度はそのままに、Wi‐Fi無線ユニットを標準装備する等、使いやすさと拡張性を向上させました。 ステンレス製ケースでIPX5の防水性能を備えており、水を扱う現場で安心してご使用いただけます。また、過不足充填を防ぐことが可能なため、飲料・調味料・油脂・...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クボタ計装

  • 大気中トリチウム捕集装置 「AT-503-H7S型」 製品画像

    大気中トリチウム捕集装置 「AT-503-H7S型」

    大気中のトリチウム濃度を分析測定!サンプリング実験装置

    【仕様】 ○電源:AC100V 30A ○外形寸法:H1695×W880×D600(突起部含まず) ○重量:約100kg ○メタンガス:ボンベ10ml/min 0.1MPa ○窒素ガス:ボンベor ライン10L/...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

  • 半導体関連装置 「レジスト液加温塗布装置」 製品画像

    半導体関連装置 「レジスト液加温塗布装置」

    純水1/4RC 圧縮空気1/4RC!薬液をスプレー塗布する装置

    【標準仕様】 ○ユ-ティリティ 純水1/4RC 圧縮空気1/4RC 排水1/4RC ○外形寸法    W800×H1500×D500 ○電源      AC100V 10A ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

  • 【医薬・食品業界向け】自動希釈装置 「R2D-EC4型」 製品画像

    【医薬・食品業界向け】自動希釈装置 「R2D-EC4型」

    各薬品を自動で希釈!確実に計量を行う高性能自動希釈装置

    ィー エアーor窒素 0.2MPa           純水供給ライン 0.1MPa ○計量希釈時間 約8分 ○外形寸法 H1850×W1000×D1000 ○重量 約200kg ○電源 AC100V 500VA ○接液部材質 貯留タンクP.P.        チューブ類SUS316・PTFE        バルブ類SUS316・PTFE        薬液タンクSUS304 ...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

  • 自動希釈装置 「R2D-EC4型」 製品画像

    自動希釈装置 「R2D-EC4型」

    各薬品を自動で希釈!確実に計量を行う高性能自動希釈装置

    ィー エアーor窒素 0.2MPa           純水供給ライン 0.1MPa ○計量希釈時間 約8分 ○外形寸法 H1850×W1000×D1000 ○重量 約200kg ○電源 AC100V 500VA ○接液部材質 貯留タンクP.P.        チューブ類SUS316・PTFE        バルブ類SUS316・PTFE        薬液タンクSUS304 ...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

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