除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

半自動液体充填機 KC-W-20SKVG

PR新型指示計搭載で使いやすさと拡張性を大幅に向上！

発泡性や粘度のある液体にも対応する、１８L缶、バッグインボックス、ペール缶などの容器へ定量充填可能な非防爆型液体充填機です。 搭載指示計を刷新し、充填精度はそのままに、Wi‐Fi無線ユニットを標準装備する等、使いやすさと拡張性を向上させました。 ステンレス製ケースでIPX5の防水性能を備えており、水を扱う現場で安心してご使用いただけます。また、過不足充填を防ぐことが可能なため、飲料･調味料･油脂･...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クボタ計装

ハンディタイプUV硬化装置　レンタル

高圧ランプ100W～1ｋWまでの装置のレンタルは当社にお任せ下さい。

【ハンディ100】 ■　高圧ランプ100W　発光長：25mm　40W/cm ■　電源：AC 100V　周波数：50か60Hzかご指定下さい。 ■　照射エリア：φ10～20mm 【ハンディ400】 ■　高圧ランプ400W　発光長：80mm　50W/cm ■　電源：AC 100V...

メーカー・取り扱い企業： セン特殊光源株式会社

卓上型表面処理装置　レンタル

ＵＶの洗浄改質装置のレンタルは当社にお任せ下さい。

照射エリア：160mm×160mm） ■　使用ランプ：SUV110GS-36（254nm&185nm）/SUV110GL-36（254nm）からお選び下さい。 ■　電源：UE1101N-19　（AC 100V　周波数：50/60Hz共用） ■　ブロワ：SB-201-M3A3+ダクトホース約2m 【SSP17-110】シャッタータイプ ■　光源：PL17-110　（照射エリア：16...

メーカー・取り扱い企業： セン特殊光源株式会社

卓上型表面処理装置 【ターンテーブル】

自動回転テーブルの卓上型表面処理装置

×200mm ■照射距離：5～200mm（1mm毎に調整可能です） ■回転テーブル：φ200mm 3.3rpm（50Hz) 　　　　　　　　　　　　 4rpm（60Hz） ■入力電源：AC 100V　50/60Hz共用 ...

メーカー・取り扱い企業： セン特殊光源株式会社

紫外線洗浄改質処理装置【コンベア式】

照射ムラの少ないコンベアタイプ表面処理装置

0WS-55L×3本 ■照射エリア：380×260mm ■照射距離：10～50mm（10mm刻み） [電源部] ■寸法：340×660×250H mm　　■重量：40kg ■入力電源：AC 3相200V　50/60Hz共用 ■消費電力：550W （ブロワ除く）...

メーカー・取り扱い企業： セン特殊光源株式会社