除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

除染ガス発生装置『steriXcure』

養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

ります。 【製品仕様】 メタノール気化量：3.0～7.0mL/min（typ4.5mL/min）＠125℃ 供給AIR：3～10L/min（typ6.5L/min）：シリカゲルA600＋B300g メタノール供給量：5～15mL/m3（typ10mL）＠室温 ガス発生所要時間：容積100m3：180～270分（容積、室分割により複数台） 循環除染ユニット：処理能力180～40CMH...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社