レーザーCVD装置

サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■O2 x 1 Ar x 4系統　MFC仕様 ■φ300 x ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

ガス温度調節装置『GTC-01』

細胞の測定や評価に適した環境を提供！コンパクトで扱いやすいガス温度調節…

『GTC-01』は、電気生理実験等において、制御温度に加熱した気体を 送り込むことで、目的とする空間内の温度調節・維持を行う ガス温度調節装置です。 細胞の測定や評価に適した環境を提供。CO2 5%ガスを37℃で供給し、 細胞薬理学試験などにご利用いただけます。 【特長】 ■供給する気体の種類を選ばない ■使用目的に合わせてチャンバーをオプション制作 ■気体流量の調節が可能...

メーカー・取り扱い企業： テック・ワーク株式会社