産業用 超純水装置 Super-Q

純水ラインにつないで、ユースポイントを超純水にアップグレード

900L/時の超純水製造が可能。製造用、精密洗浄用など必要な場所で超純水が使えます。最終ポリッシャーとしての機器接続なども対応。...建物の純水供給ラインや大型の純水装置につないで超純水を製造できます。 コンパクトなユニットで場所をとりません。 ■□ 特徴 □■ ・毎時900L（毎分15L）まで必要なユースポイントで超純水を使えます ・さらに超純水を複数のユースポイントに使うこともでき...

メーカー・取り扱い企業： メルク株式会社ライフサイエンス（シグマ アルドリッチ ジャパン合同会社）

Eppendorf遠心機　総合カタログ2024

Eppendorf超遠心機、高速冷却遠心機、小形遠心機、卓上遠心機の最…

【Himac掲載内容】 ■超遠心機シリーズ ■冷却遠心機シリーズ ■小形遠心機シリーズ 【Eppendorf掲載内容】 ■卓上遠心機シリーズ ■多目的遠心機シリーズ ■遠心濃縮機シリーズ ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...【掲載製品】 ■超遠心機シリーズ 　・超遠心機　　CP100NX CP90NX CP80NX 　・小形超遠...

メーカー・取り扱い企業： エッペンドルフ・ハイマック・テクノロジーズ株式会社

【資料】香料メーカー様向けフィルターカートリッジ　ろ過のご提案

スリーエム(3M)のろ過のご提案！コストダウンや作業性改善のお手伝いを…

当資料は、香料メーカー様向けにスリーエム/3Mのフィルターカートリッジろ過のご提案をしております。 ろ過プロセスのフィルターにより、作業性改善・削減を実施、削減した時間を他品種の製造や作業へ充当可能。 当社ろ過提案製品で、コストダウンや作業性改善のお手伝いをさせて頂きます。ぜひ、ご一読ください。 【掲載製品(抜粋)】 ■3M(TM)熱溶着フェルトフィルターバッグ NBシリーズ ■3M(TM)ポリ...

メーカー・取り扱い企業： スリーエム ヘルスケア ジャパン合同会社 フィルター製品事業部

【機能性とデザイン性を追及】NEXTY　ピペッタースタンド

機能性とデザイン性を追及した、こだわりのピペッタースタンド。一部ワトソ…

『NEXTY　ピペッタースタンド』は、掛けやすさ、持ち運びやすさ、 滑らかな回転にこだわりました。 スタイリッシュなデザインで、コンパクトに収納できます。 【特長】 ◆使いやすいホルダー ◆持ちやすいヘッド ◆滑らかな回転 ◆コンパクト設計 ★詳しい内容は、カタログをダウンロードしてください。...【製品情報】 ・サイズ：高さ約330mm　最大径約Φ200mm（※スタンド...

メーカー・取り扱い企業： 深江化成株式会社

ACQUITY Premier システム超高速液体クロマトグラフ

次世代 UPLC が非特異的吸着を著しく低減

日本ウォーターズ株式会社 ACQUITY Premier システム 超高速液体クロマトグラフは、ACQUITY UPLC PLUS シリーズに期待する信頼性、堅牢性、高品質、構成の柔軟性に加えて、クロマトグラフィー性能、ラボ効率、リスク管理に一段階上の進化をもたらします。また、新規の MaxPeak High Perform...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

ACQUITY UPLC H-Class Bioによる糖鎖分離

より短時間で、より確実な糖鎖分析法の開発を実現します。

Auto•Blend Plusテクノロジーを搭載したACQUITY UPLC H-Class BioシステムとGlycan Separation Technology(GST)カラムの使用により、より短時間で、より確実な糖鎖分析法の開発を実現します。 【特徴】 ○ゲルろ過分析にもUPLCテクノロジーを導入 ○開発から品質管理まで様々な段階で要求される 　抗体医薬品の凝集体分析の高速化、...

メーカー・取り扱い企業： 日本ウォーターズ株式会社

液体窒素滴下装置『Easy Dose G2』

真空封入のため霜付や凍結の心配がない！滴下量の誤差は±3%の液体窒素滴…

は、VBC社セミフレックス及び トライアックスホースを用いて、液体窒素(LN2)を直接供給できます。 1分間に2000本まで容器に液体窒素を正確に滴下できる 「Easy Dose G2 PLUS」も取り扱っております。 【特長】 ■滴下量の誤差は±3% ■LN2により容器の圧力保持又は窒素置換を正確に行う ■運転中でも簡単に調節可能 ■No Bottle/No Dose機能...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンマシナリー株式会社

NGCクロマトグラフィーシステム

簡単操作の中高圧クロマトグラフィー

NGC 中・高圧クロマトグラフィーシステムファミリーは、スループットの要件に合わせて規模を変更できる単一の研究室用クロマトグラフィーソリューションを提供します。 構成済みのシステムも用意されており、スループットや自動化のニーズの変化に応じて簡単にアップグレードできます。 NGC システムのモジュラーデザインにより、それぞれが個々の研究者の要件に対応した複数の構成を提供できます。 システムのフ...

メーカー・取り扱い企業： バイオ・ラッド ラボラトリーズ株式会社 東京本社

液体窒素滴下装置

ペットボトル、アルミ缶及びその他包装用材に使用可能な液体窒素滴下装置

【ラインアップ】 ■Easy Dose G2 ■Easy Dose G2 PLUS ■Nitro Dose G2 Pro ■Mini Dose ■Linerter II ■Nitrodose HSA ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンマシナリー株式会社

高流量循環型高性能湿式粉砕・分散機

高流量循環型高性能湿式粉砕・分散機

ダイノーミルECMシリーズでは、新たにアクセレレーターと呼ばれるアジテーターを採用しました。アクセレレーターにより、分散メディアに均一で高い運動エネルギーを与えるとともに、同容量のKDシリーズと比較した場合、５〜10倍の流量アップを可能にしました。この特性を生かし大流量循環運転を行うことにより、微粒化が要求される難分散の処理物においても、従来機では達成できない粒径までの超微分散と、パス回数を多くす...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シンマルエンタープライゼス

12配列パラレル合成装置　＜Radleys製＞

温度、撹拌が同一条件で多サンプルの実験を効率化します。

反応チューブ12本（Φ16: 1 ～5 ml, Φ24: 5 ～ 20 ml）の撹拌加熱冷却ができます。水冷式還流ヘッドを使用して不活性ガス雰囲気中で反応できます。...◆　12本まで反応液量　(1～20 ml)が一度に反応と可能 ◆　220℃まで急速加熱と冷却リザーバーによる-78 ℃ の冷却反応が可能 ◆　短時間のセットアップと簡単操作 ◆　観察スリットで全反応容器内の観察が容易 ◆　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイビック・リサーチ

24配列パラレル合成装置　＜Radleys社製＞

温度、撹拌が同一条件で多サンプルの実験を効率化します。

反応チューブ24本（0.5ml～7 ml）の撹拌加熱冷却ができます。 水冷式還流ヘッドに添加用ノズルが付属しています。...◆　強力な撹拌と150℃までの急速加熱 ◆　取り外しのできる水冷式還流ヘッド ◆　不活性ガス雰囲気中での反応が可能 ◆　実験中の試験管内部の観察が容易 ◆　青色の冷却リザーバーを使ってアセトン＋ドライアイスの寒剤による-78 ℃ の冷却反応が可能 ◆　ヘッドを交換...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイビック・リサーチ

プラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)な…

Particle-PLUSは、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです。プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに有効なソフトです。二周波CCPや外部回路モデルなどの高度な物理モデルに対する解析...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

マグネトロンスパッタ用解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする …

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

CCP シミュレーション解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

『Particle-PLUS』はCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適した シミュレーションソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とする ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 2周波CCP

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 Particle…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…

代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関する3Dでの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理

Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…

代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関する解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

CVD装置用　解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

『Particle-PLUS』はCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適した シミュレーションソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・CCP...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

『Particle-PLUS』はICPやCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適したソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・ICP シミュレー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「円筒型マグネトロン装置のプラズ…

長い円筒パイプの内側に強い膜を成膜する方法のひとつである円筒標的を用いたマグネトロンスパッタの解析事例です Particle-PLUSで利用可能な 1)軸対称モデル 2)鏡面対称境界条件を組み合わせることで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく高速に結果を得ることができます ◇『Particle-PLUS』の特徴...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、 RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…

CCP（容量結合プラズマ）装置のプラズマ解析に関する事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 電極が複数ある場合や重畳周波数を印加する場合に対しても 高速にシミュレーションを行うことができます ◇『Particle-PLUS』の...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「AC マグネトロン…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置

長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いた…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」CCP装置の3次元解析

Particle-PLUS解析事例紹介 "容量結合プラズマ（CC…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「対向ターゲット式ス…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP

Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理

代表的なドライエッチング手法のひとつである CCP（容量結合プラズマ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 　高速に成膜速度などのシミュレ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析

Particle-PLUS解析事例紹介 "イオンビームの質量分析…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS　回転ターゲットのマグネトロン

カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「対向ターゲット式パッタ(3D解…

スパッタの解析事例です。 3D計算は、2D計算と比較して計算コストは大きくなりますが、 より複雑な形状とそこからの影響を考慮してシミュレーションを行えます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト

ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算

フト『DSMC-Neutrals』》 ■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応 ■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能 《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》 ■低圧のプラズマシミュレーションが可能 ■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに この2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、 プラズマ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

6配列パラレル合成装置　＜Radleys製＞

温度、撹拌が同一条件で多サンプルの実験を効率化します。

丸底フラスコ5 ml～250 mlを6本同時に撹拌加熱冷却と水冷式還流ができます。...◆　強力な撹拌で180℃までの急速加熱と冷却リザーバーによる-78 ℃ の冷却反応が可能 ◆　短時間のセットアップと簡単操作 ◆　脱着容易な水冷還流ヘッド ◆　100 mlと 200 mlのディーン・スターク装置も選択可能 ◆　不活性ガス中での反応が可能 ◆　実験中の反応容器内の観察が容易...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイビック・リサーチ