• 【廃食油を燃料利用しCO2を削減!】マルチオイルボイラシステム 製品画像

    【廃食油を燃料利用しCO2を削減!】マルチオイルボイラシステム

    PR食品工場から排出される使用済み廃食油や排水浮上油を回収、ボイラ燃料とし…

    マルチオイルボイラは、自社開発マルチオイルバーナー搭載の省エネボイラです。 従来廃油は、産業廃棄物又は処理委託が多いですが工場内での再エネルギ-が可能、 ボイラ燃料の有効活用として廃油に新たな価値をご提案いたします。 廃食油は、植物由来のためバイオマス燃料としてCO2排出削減やカ-ボンニュートラル、 マルチオイルボイラ導入による更なる省エネ効果や環境社会に貢献いたします。 ■特長...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社太陽 E&A事業部

  • MOE抗体設計アプリケーション 製品画像

    MOE抗体設計アプリケーション

    PRコンピューターで抗体モデリング・抗体設計を行うための有用なアプリケーシ…

    近年、抗体医薬品開発を効率化するためにインシリコによる合理的な設計が益々重要となっています。 統合計算化学システム MOEは、低分子、ペプチド、抗体、核酸などの広範なスケールの分子の設計に活用でき、創薬モダリティー開発に対応した分子モデリングソフトウェアです。ホモロジーモデリング、タンパク質デザイン、バーチャルファージディスプレイ、エピトープマッピング、分子表面解析、物性推算、化学的修飾候補部位...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社モルシス

  • 工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

    揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介!

    『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • フォトレジスト剥離液『アンラスト RC-D6』 製品画像

    フォトレジスト剥離液『アンラスト RC-D6』

    ドライフィルムレジスト剥離液やウレタン塗料の剥離等に使用可能!

    『アンラスト RC-D6』は、レジストや塗料の剥離用途に適した フォトレジスト剥離液です。 溶剤タイプの剥離液で、ドライフィルムレジスト剥離液や ウレタン塗料の剥離等に使用可能。 18kg缶/ドラムで...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

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