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半導体などの工程加工に適した各種成膜、酸化膜形成、アニール処理に適した…
成膜 ・PBII（Plasma Based Ion Implantation) カーボン成膜が可能 ・スパッタ 電極膜の成膜が可能 熱処理 ・RTA（Rapid thermal annealing） 縦型高周波誘導加熱方式により、～1800度までの熱処理が可能 ・酸化炉 酸化、熱処理...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター
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Film Deposition&Heat Treatment
Equipped with various film depositi…
Carbon deposition ・ Sputter Possible to form electrode film Heat treatment ・ RTA (Rapid thermal annealing) Heat treatment up to 1800 degrees is possible by vertical high-frequency...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター
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