除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

品質向上・装置トラブル防止に！鉄粉捕捉装置『マグトラップ』

PRフラット、チューブ、棒など様々なタイプをご用意！頑丈構造＆高耐久性の鉄…

『マグトラップ』は、パイプライン内液中の鉄、ニッケル、磁化された SUS400シリーズを強力なレアアース磁石(希土類磁石)で捕捉する装置です。 品質向上、PL法対策、装置トラブル防止、外部購入原料チェック、 捕捉金属による故障原因の早期発見等に広く利用されいます。 また当社では、フラットプレートタイプの「MODEL 115」をはじめ、 チューブタイプの「MODEL 135」など、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アキュレックス 本社、大阪営業所

FZウェーハ　FZシリコン製品　ガスドープドＦＺシリコン

汚染物質の少ないFZ法で製造された高品質・高純度・高抵抗のFZシリコン…

ガスドープFZシリコンは、単結晶の引き上げをドーパントガス中で行なう事によって、不純物をドーピングしたFZシリコンです。 弊社では高品質・高純度FZシリコンのご提供が可能です。 現在、FZシリコンは汚染物質の少なさから、既存のメモリーやDSPなどのICのみならず、MEMSやオプトセンサ分野にも幅広く使用されております。 詳しくはお問い合わせください。 ★Prime Grade FZ i...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

直径３０ｍｍ程度～8インチまで対応可能　高抵抗FZウェーハ

直径３０ｍｍ程度から8インチ、高ライフタイム、１万オームを超えるような…

直径は３０ｍｍ程度～8インチまで、高ライフタイム・低酸素・低炭素が特徴で、1万Ωを超えるような超高抵抗ウェーハの対応も可能です。 センサー用FZウェーハは、パーティクル検査機・IR検査機等に、ハイパワーデバイス用FZウェーハは、サイリスター・IGBT等に、中耐圧用FZウェーハは、IGBT･ダイオード等に利用されています。 ＊Prime Grade FZ ingot（即納可能） 納品時には...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社