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PR当製品で快適な作業を!無菌操作やプロテオミクスの処理に好適
『LABOPAD Series』は、直感的に操作可能で、設置スペースを選ばない コンパクトサイズの薄型恒温プレートです。 「LABOPAD-C2」は0~100℃、「LABOPAD-H2」は室温+3℃~100℃までに 設定できるドライバスインキュベーター。当製品は、厚さが薄いため、 どこでも簡単に持ち運べます。 また、「LABOPAD-C2」は冷却機能が付いていますので、これまでの...
メーカー・取り扱い企業: トスク株式会社(旧十慈フィールド)
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腐食性ガス・放出ガスの発生を抑える電解研磨
オジープ処理(OGEP-V3)とはアルミ及びステンレスチャンバー(オーステナイト系・マルテンサイト系)に対応できる電解研磨です。半導体製造装置部品等に使用でき、真空装置の真空時に発生する放出ガスを抑える効果があります。電解研磨では腐食性の「硫黄ガス」が発生しますが、オジープ処理は発生しません。 オジープ処理はアルミニウムに行う「オジープ・Al」とステンレスに行う「オジープ・SUS」があります。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社オジックテクノロジーズ
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