• 【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置 製品画像

    【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置

    ◉ 短時間 1バッチわずか30分で容易にグラフェン合成実験が可能 ◉…

    ◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度制御:±1℃ ◉ 高精度APC自動圧力制御システム:ガス3系統(Ar, H2, CH4) ◉ グラフェン作成用標準レシピ付属 ◉ コンパクトサイズ:405(W) x 415(D) x 280(H)mm...◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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