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    バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載

    PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現。 移動…

    『バックターン洗浄機』は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法:1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコス...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒタカ精機

  • 薄型恒温プレート『LABOPAD Series』 製品画像

    薄型恒温プレート『LABOPAD Series』

    PR当製品で快適な作業を!無菌操作やプロテオミクスの処理に好適

    『LABOPAD Series』は、直感的に操作可能で、設置スペースを選ばない コンパクトサイズの薄型恒温プレートです。 「LABOPAD-C2」は0~100℃、「LABOPAD-H2」は室温+3℃~100℃までに 設定できるドライバスインキュベーター。当製品は、厚さが薄いため、 どこでも簡単に持ち運べます。 また、「LABOPAD-C2」は冷却機能が付いていますので、これまでの...

    メーカー・取り扱い企業: トスク株式会社(旧十慈フィールド)

  • 大気中トリチウム捕集装置 「AT-503-H7S型」 製品画像

    大気中トリチウム捕集装置 「AT-503-H7S型」

    大気中のトリチウム濃度を分析測定!サンプリング実験装置

    大気中トリチウム捕集装置 「AT-503-H7S型」は、大気のトリチウム濃度を分析測定するためのサンプリング実験装置です。 大気中の水素成分を化学形別(HTO・HT・CH3T)に捕集し、捕集後、モリキュラーシーブ(吸湿剤)を加熱脱湿して、水分の回収までを自動で行います。 【特徴】 ○捕集にはモリキュラーシーブと酸化触媒を組み合わせ、HTOはモリキュラーシーブで回収 ○HT・CH3Tは酸...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

  • 噴霧熱分解装置 「ACP-U16-H5型」 製品画像

    噴霧熱分解装置 「ACP-U16-H5型」

    各部取り外し可能!特殊構造分離膜で振動子を傷めない研究開発実験用装置

    噴霧熱分解装置「ACP-U16-H5型」は液相法による微粒子合成装置であり超音波式噴霧熱分解法に基づいた超微粒子生成プロセスのための研究開発実験用装置です。 「原液(試料液)供給部」「超音波霧化部」「キャリーエアーガス導入部」「加熱分解反応部」「微粒子捕集部」「排ガス処理部」を本体とし超微粒子生成プロセスを制御する「制御盤部」から構成されています。 【特徴】 ○超音波霧化方式により、霧化...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

  • ロータリー加熱反応装置 「RHD-G6H3Z型」 製品画像

    ロータリー加熱反応装置 「RHD-G6H3Z型」

    ガス置換・回転加熱が可能!ガスパージ式加熱試験システム

    ロータリー加熱反応装置 「RHD-G6H3Z型」は、炉心管内部にセラミック系などの微粉体試料を入れ、 様々な種類のガスを導入しながら電気炉にて加熱反応させる試験装置です。 電気管状炉は3ゾーン加熱方式。ガス置換機能、プログラム温度制御機能、 炉心管ロータリー機能、水素ガス検知器などの安全機能を装備しています。 【用途】 半導体ウエハ 新素材の開発 コンパウンドの開発 EV開発 各種センサ素子 ...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

  • JIS試験再現装置・分析装置 「COD自動分析計」 製品画像

    JIS試験再現装置・分析装置 「COD自動分析計」

    汚濁指標である化学的酸素要求量の連続自動測定に最適!

    「COD自動分析計」は“JIS-K0102工場排水試験方法”に準拠して自動化したものです。測定開始時刻になると(あらかじめ各種設定、オートモード運転の場合)、試料水、希釈水、試薬(銀無添加では硫酸、過マンガン酸カリウム、銀添加では硝酸銀、硫酸、過マンガン酸カリウム各)を規定量計量、注入した後、オイルバスにより、摂氏100度で30分間加熱反応させ試料中の被酸化性物質を酸化させます。 【特徴】 ...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

  • 半導体関連装置 「レジスト液加温塗布装置」 製品画像

    半導体関連装置 「レジスト液加温塗布装置」

    純水1/4RC 圧縮空気1/4RC!薬液をスプレー塗布する装置

    「レジスト液加温塗布装置」は、半導体関連で使用されるシリコンウェハー・ガラス基盤等のワークを、任意のスピードで回転させながら、常温または加温した薬液をスプレー塗布する装置です。 お客様のご要望に、技術ノウハウと創造力で、機能性、操作性、安全性を追及した、価値のある製品をご提案いたします。 【材質】 ○本体 :鋼板製 ○塗布部:塩ビ製 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロ...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

  • 【医薬・食品業界向け】自動希釈装置 「R2D-EC4型」 製品画像

    【医薬・食品業界向け】自動希釈装置 「R2D-EC4型」

    各薬品を自動で希釈!確実に計量を行う高性能自動希釈装置

    「R2D-EC4型」は、各薬品を純水で1:2又は1:4に希釈し、補給タンクに自動供給します。 その他の希釈倍率にも対応いたします。 計量は2液ともガラス計量管で、固定計量を行いますので、計量精度は±0.3%以下の高精度となっております。 【特徴】 ○±0.3%以下の高精度 ○体積式で確実に計量 ○2レンジの希釈が可能 ○ご要望により新規設計製作 詳しくはお問い合わせ、または...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

  • 試験装置・評価装置 「ジャケット式加熱撹拌タンクユニット」 製品画像

    試験装置・評価装置 「ジャケット式加熱撹拌タンクユニット」

    大型の撹拌羽根を採用!新素材などの開発・研究を行う装置

    「ジャケット式加熱撹拌タンクユニット」は、様々な試料液を加熱・撹拌して、新素材などの開発・研究を行う装置です。 撹拌タンクは、SUS316製で内面研磨処理を施してあります。 大型の撹拌羽根を採用し、高粘度の液体も撹拌できます。また撹拌回転数は、インバーターにより可変可能です。 タンク内は真空ポンプによる真空・ガス置換が行え、撹拌部は高温用のメカニカルシール接続です。また薬液ポンプなどによる液...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

  • 自動希釈装置 「R2D-EC4型」 製品画像

    自動希釈装置 「R2D-EC4型」

    各薬品を自動で希釈!確実に計量を行う高性能自動希釈装置

    「R2D-EC4型」は、各薬品を純水で1:2又は1:4に希釈し、補給タンクに自動供給します。 その他の希釈倍率にも対応いたします。 計量は2液ともガラス計量管で、固定計量を行いますので、計量精度は±0.3%以下の高精度となっております。 【特徴】 ○±0.3%以下の高精度 ○体積式で確実に計量 ○2レンジの希釈が可能 ○ご要望により新規設計製作 詳しくはお問い合わせ、または...

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