• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可 製品画像

    加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可

    PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能!

    【サンセップによるガスの加湿方法】 方法1. 純水  供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法2. 湿潤ガス(無給水加湿)  供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。  空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利! 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

    メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー

  • ミストコレクター『大風量型ミストレーサー CRL-H22』 製品画像

    ミストコレクター『大風量型ミストレーサー CRL-H22』

    開放型マシニングセンタに対応の大風量タイプ!高効率のミストコレクター

    【標準仕様】 ■形式:CRL-H22 ■吸込相フランジ外径(mm):200 ■相:3 ■出力(kw):2.2 ■50Hz  ・最大風量(m3/min):30  ・最大静圧(kPa):1.80 ■60Hz  ・最大風量(m3/min):30  ・最大静圧(kPa):1.80 ■捕集効率(%):98.0 ■最高吸気温度(℃):40 ...

    メーカー・取り扱い企業: SDG株式会社 推進Gr

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