• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可 製品画像

    加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可

    PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能!

    【サンセップによるガスの加湿方法】 方法1. 純水  供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法2. 湿潤ガス(無給水加湿)  供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。  空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利! 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

    メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー

  • UVC空間飛沫除菌装置『eLENA Lin(エレナ リン)』 製品画像

    UVC空間飛沫除菌装置『eLENA Lin(エレナ リン)』

    【訪問デモ可能!】近畿大学医学部との共同開発!レストラン・料亭・ホテル…

    【仕様(一部)】 ■本体型式:DL-UL101G ■風量:弱 0.4m3/min 強 0.5m3/min ハイパワー 0.9m3/min ■ファンモーター:DCブロアファン ■消費電力:弱 32w 強 35W ハイパワー 58w ■UVCランプ:UVC LED ■重量...

    メーカー・取り扱い企業: フジデノロ株式会社

  • 感染症対策 UVC空気除菌装置 eLENA(エレナ) 製品画像

    感染症対策 UVC空気除菌装置 eLENA(エレナ)

    感染症予防のために設計・開発・デザインされた「感染症対策UVC空気除菌…

    /グレー/ブラック 処理方式  :送風式紫外線照射 使用目的  :空中浮遊菌の除菌 使用ランプ :20W×2本 ランプ寿命 :8,000h 処理風量  :1.0/2.0/3.0m3/min 電源電圧  :AC100V 50/60㎐ 消費電力  :65W 本体サイズ :H983mm×Φ200m(脚部Φ270) 質量     :(約14.5kg) タイマー :切1/...

    メーカー・取り扱い企業: フジデノロ株式会社

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