除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿　小流量も可

PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能！

【サンセップによるガスの加湿方法】 方法１． 純水 　供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法２． 湿潤ガス(無給水加湿) 　供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。 　空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利！ 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

メーカー・取り扱い企業： ＡＧＣ株式会社 化学品カンパニー

【エアロゾル対策】UVC空気除菌装置「eLENA(エレナ)」

『新型コロナウイルスを1.0秒以内に強力除去！』強い除菌効果を持つUV…

[メーカー] フジデノロ株式会社 [使用ランプ] 20W×2本　※ランプ寿命：8,000h(推奨：2年1回) [処理風量]1.0/2.0/3.0m/3min [電源電圧] AC100V 50/60Hz [消費電力]65W [本体サイズ]H983mm×本体直径200mm(脚部直径270mm) [質量]14.5kg [タイマー]切1/2/3h ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タカハラコーポレーション

【飛沫対策】UVC空間飛沫除菌装置eLENA Lin/エレナリン

会話の中で発生する呼気や飛沫を吸引し、除菌・不活性化！

[メーカー] フジデノロ株式会社 [風量] 弱：0.4 強：0.5 ハイパワー：0.9(平方メートル/min) [消費電力] 弱32W 強35W ハイパワー58W [UVCランプ] UVC LED [サイズ] 228mm×345mm×115mm [重量] 1.84kg [フィルター] 帯電HE...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タカハラコーポレーション