除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿　小流量も可

PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能！

【サンセップによるガスの加湿方法】 方法１． 純水 　供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法２． 湿潤ガス(無給水加湿) 　供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。 　空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利！ 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

メーカー・取り扱い企業： ＡＧＣ株式会社 化学品カンパニー

ノイベルクディスペンサ『EWA30』

プランジャポンプ方式で高精度の吐出が可能な微量精密ディスペンサ！

【仕様】 ■型式:ノベルクディスペンサ　EWA30 ■一回吐出量:0～30.0μL ■吐出速度:120回/min（制御方式や吐出量によって増減） ■プランジャ面積:10平方ミリメートル ■ストローク:セラミックス、PEEK樹脂、テフロン ■モータ:安川電機　SGMMJ-A3BAB21 ■寸法:26×...

メーカー・取り扱い企業： ノイベルク有限会社

ディスペンサ『ノイベルクディスペンサLCA50』

精密な線引きに最適！プランジャ方式で高精度の吐出を行う液中式ディスペン…

【仕様】 ■型式:ノベルクディスペンサ　LCA50 ■一回吐出量:0～50.0μl ■最大回数:30回/min ■プランジャ面積:5平方ミリメートル ■最大ストローク:10mm ■容器容量:20ml ■重さ:1500g ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ノイベルク有限会社