除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿　小流量も可

PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能！

【サンセップによるガスの加湿方法】 方法１． 純水 　供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法２． 湿潤ガス(無給水加湿) 　供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。 　空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利！ 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

メーカー・取り扱い企業： ＡＧＣ株式会社 化学品カンパニー

メタロールポンプ『RX-3』

精密微量塗布可能！

【仕様】 ■テフロンチューブ（φ1.4×φ2.0）：1.2cc/min ■シリコンチューブ（φ2.0×φ4.0）：20cc/min ■ローラー回転数（0～MAX）：120rpm ■正・逆回転：可 ■吐出量タイマー：デジタル ■液ギレ機能：負圧機能付 ■適...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日興エンジニアリング

ポンプ『RVP-20』

低粘度の液体の充填・移送等に適しています！

【仕様】 ■吐出量：1200ml/min ■分解能：10μl ■計量ピストン径：φ12 ■最大ストローク：45mm ■吐出速度：20ml ■再現精度：±1%以内 ■適応粘度（MAX）：10000CPS ■駆動源：ステッピン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日興エンジニアリング

メタロールポンプ『MRP-IX』

低価格で高品質を実現！

【仕様】 ■テフロンチューブ（φ1.4×φ2.0）：0.8cc/min ■シリコンチューブ（φ2.0×φ4.0）：14cc/min ■ローラー回転数（0～MAX）：80rpm ■正・逆回転：可 ■吐出量タイマー：設定可 ■液ギレ機能：* ■適応粘度：30...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日興エンジニアリング