除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

ReactALL

5mLの試験液ボリュームで有機合成や多条件スクリーニングが可能

温度プロファイル数：5 温度範囲：-25～150℃ *周囲温度が21℃±2℃で、18℃におけるチラーの冷却能力が約1180ワットの場合。 温度精度：0.5℃ 加熱/冷却速度：0.1 ～ 20 ℃/min 攪拌翼形状：インペラ もしくは らせん形状 攪拌速度：0 ～ 1250 rpm 濁度検出：各リアクターにて 外部冷却器（チラー）：-25 ～ -10 ℃で使用する場合必要 安全バルブ付き サンプ...

メーカー・取り扱い企業： フィジオマキナ株式会社