• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可 製品画像

    加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可

    PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能!

    【サンセップによるガスの加湿方法】 方法1. 純水  供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法2. 湿潤ガス(無給水加湿)  供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。  空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利! 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

    メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー

  • 【試験事例】JIS Z 0232 振動試験 製品画像

    【試験事例】JIS Z 0232 振動試験

    試験レベルや加振時間についてはJIS Z 0200試験方法一般通則を参…

    振動試験や 製品自身の共振点を探査する正弦波共振点検出振動試験、製品強度を 確認する為の耐久性試験など、多様な目的で実施しています。 試験をご希望の際はぜひ当社へご相談下さい。 【振動条件】 ◇ランダム振動試験 ・加速度実行値:0.604Grms ・周波数:2-200Hz ◇正弦波掃引振動試験 ・加速度:7m/s2 ・周波数:3-100Hz ・掃引速度:1/2oct/min

    メーカー・取り扱い企業: 日本ビジネスロジスティクス(JBL)株式会社 藤沢北事業所

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